VI PN结二极管的特性
半导体是一种介于金属和绝缘体之间的具有电阻率和导电性的材料。根据纯度半导体有两种类型:本征半导体是一种纯半导体,不存在任何显着的掺杂剂(杂质)种类。本征半导体也称为未掺杂半导体,外在半导体是一种掺杂有杂质的半导体,称为非本征半导体。
pn结二极管
Junction generally means the area or point that bounds two different parts, similarly in diodes junction is a boundary of two semiconductor materials i.e. the p-type and the n-type, semiconductor.
pn结中的p侧具有半导体的正侧并且它具有过量的空穴,而n侧具有过量的电子,因此它是负侧。半导体中的pn结是通过掺杂的方法发展起来的。在半导体中添加杂质称为掺杂。
pn结的形成
让我们理解一个例子,考虑一个薄的 p 型硅半导体片。如果我们在其中添加少量五价杂质(具有五价),一部分 p 型硅将转化为 n 型硅。该片现在将包含两个区域,即 p 型和 n 型区域,并且在两个区域之间创建一个结。
- 在形成 pn 结之后有两种类型的工艺——扩散和漂移。众所周知,扩散是随着粒子从高浓度向低浓度流动的过程,由于结两侧的电子和空穴浓度不同,电子从n侧扩散到p侧。 - 侧和 p 侧的空穴扩散到 n 侧。这导致扩散电流增加。
- 此外,在 n 侧留下了一个电离的供体,这是当电子从 n 侧扩散到 p 侧时产生的固定电荷。作为这个过程的结果,在结的 n 侧形成了一层正电荷。
- 类似地,当一个空穴从 p 侧移动到 n 侧时,一个电离的受主留在 p 侧,导致在结的 p 侧形成一层负电荷。结两侧的负 (-) 和正电荷 (+) 区域称为耗尽区。
- 形成从正电荷到负电荷的电场方向,由于结两侧的这个正电荷区域,由于这个电场,发生了电子和空穴的流动。这被称为漂移运动。一般来说,漂移电流的方向与扩散电流的方向相反。
前向偏差
在偏置半导体连接到外部源。当 p 型半导体连接到源或电池的正极端子而负极端子连接到 n 型时,则称这种类型的结是正向偏置的。在正向偏压中,结附近的内建电场方向与外加电场方向相反。这意味着合成电场的大小小于内置电场。因此,电阻率较小,因此耗尽区较薄。在硅中,电压为 0.6 V 时,耗尽区的电阻完全可以忽略不计。
反向偏置
在反向偏置中,n 型连接到电池的正极,p 型连接到电池的负极。在这种情况下,外加电场和内建电场方向相同,电场的合成强度比内建电场大,电阻更大,因此耗尽区更厚。如果施加的电压变大,则耗尽区变得更电阻和更厚。
p-n Junction Formula
The potential difference created by the electric field in the p-n junction is given by:
Eo = VT ln [Nd Na / ni2]
where
- Eo junction voltage at no bias,
- VT is the thermal voltage at room temperature i.e. 26mv,
- Nd and Na are the concentrations of impurity and
- ni is intrinsic concentration.
六、pn结二极管的特性
- 在正向偏置条件下,p 型连接到电池的正极,n 型连接到电池的负极,在这种情况下,势垒会降低。对于锗二极管,当电压为 0.3 V 时,对于硅二极管,当电压为 0.7 V 时,势垒减小,并且有电流流动。
- 当二极管处于正向偏置时,由于施加在二极管上的电压越过了势垒,电流缓慢增加,得到的曲线是非线性的。一旦二极管越过势垒,二极管表现正常,曲线随着外部电压的进一步增加而急剧上升,得到的曲线是线性的。
- 当PN结二极管处于反向偏压状态时,这导致势垒增加,电阻也增加。少数载流子存在于结中,这会在开始时产生反向饱和电流。
- 如果施加的电压迅速增加,由于少数电荷载流子影响多数电荷,动能会增加。在这个阶段,二极管击穿。或电压称为击穿电压,这也可能会破坏二极管。
示例问题
问题1:当硅掺杂铟时,它会导致哪种类型的半导体?
回答:
As we know, Valency of Indium is 3 therefore it is Trivalent in nature, when it is doped in Silicon it has majority of holes, that’s why it is of p-type semiconductor.
问题 2:晶体管的电流增益为 30 安培。如果集电极电阻为6 kΩ,输入电阻为1 kΩ,计算其电压增益。
回答:
Given,
Rin =1 kΩ and Rout = 6k Ω
∴ Rgain = Rout/Rin = 6/1 = 6
Voltage gain = current gain × Resistance gain
= 30 × 6 =180
问题3:写孔的特征。
回答:
Following are the characteristics of holes:
- A hole is equivalent to a positive electric charge.
- The mobility of a hole as compare to that of an electron is less.
问题 4:说出导致以下结果的偏差类型:
a) 阻力增加,
b) 抵抗力下降和
c) 增加耗尽区的宽度。
回答:
a) In reverse bias resistance increases.
b) In forward bias resistance decrease.
c) In reverse bias there is increase in the width of depletion region take place.
问题5:本征半导体中电子和空穴的比例是多少?
回答:
Number of electrons = ne
Number of holes = nh
In intrinsic semiconductor, ne = nh
ne/nh = 1
问题 6:定义术语 pn 结击穿电压。
回答:
In reverse bias condition, when the applied voltage increases gradually at a certain point there is increase in reverse current noticed, this is junction breakdown, corresponding applied voltage is known as breakdown voltage of p-n junction diode.